近日，全球范围内发布了180nm硅光工艺设计套件（PDK），标志着硅基光电子技术在工艺制造与集成电路设计领域迈出了重要一步。这一突破性进展不仅提升了光电子器件的集成度和性能，还扩大了其在通信、计算和传感等应用中的潜力。
硅光PDK作为连接设计与制造的关键工具，为工程师提供了标准化的设计流程和库文件。180nm工艺节点的引入，优化了光波导、调制器和探测器的性能，同时降低了制造成本。通过PDK，设计师可以更高效地开发混合光电器件，结合传统电子集成电路的优势，实现高速、低功耗的系统集成。
此次全球发布不仅促进了学术界与工业界的合作，还加速了硅光技术的商业化进程。随着工艺制造能力的持续提升，未来硅基光电子有望在5G通信、人工智能和量子计算等领域发挥更大作用，推动集成电路设计向多物理场融合方向发展。
